Простий
пошук
Розширений
пошук
Покажчики
Професійний
пошук
Рубрикатор
НБУВ
Розподілений
пошук

Бази даних

Наукова періодика України - результати пошуку

Книжкові видання та компакт-диски
Журнали та продовжувані видання
Автореферати дисертацій
Реферативна база даних
Наукова періодика України
Тематичний навігатор
Авторитетний файл імен осіб
Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"
Вид пошуку
Повнотекстовий пошук
 Знайдено в інших БД:Реферативна база даних (1)
Список видань за алфавітом назв:
A  B  C  D  E  F  G  H  I  J  L  M  N  O  P  R  S  T  U  V  W  
А  Б  В  Г  Ґ  Д  Е  Є  Ж  З  И  І  К  Л  М  Н  О  П  Р  С  Т  У  Ф  Х  Ц  Ч  Ш  Щ  Э  Ю  Я  

Авторський покажчик    Покажчик назв публікацій


Пошуковий запит: (<.>A=Abubakar D$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 2
Представлено документи з 1 до 2
1.

Abubakar D. 
Investigation on the structural and optical properties of NiO nanoflakes. chemical bath deposition of Ni(OH)2 thin films [Електронний ресурс] / D. Abubakar, N. Mahmoud, Sh. Mahmud // Український фізичний журнал. - 2017. - Т. 62, № 11. - С. 964-971. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2017_62_11_9
За допомогою методу хімічного осадження вирощено пористі нанолусочки окису нікелю NiO. На підкладці оксид індію-олова/скло отримано тонкі плівки та піддані відпалу за змінної температури в печі. Вивчено та проаналізовано їх структуру, оптичні властивості та морфологію поверхні. За допомогою методу емісійної растрової електронної мікроскопії показано присутність нанолусочок у структурі NiO/Ni(OH)2 тонких плівок. Розміри нанолусочок збільшуються з ростом температури відпалу. Знайдено, що найбільшу площу поверхні має зразок, вирощений за 300 <^>oC. Результати енергодисперсійної спектроскопії показують нестехіометрію атомного відношення зразка, що відповідає p-типу NiO тонкої плівки. За допомогою методу атомної силової спектроскопії знайдено, що зразок, вирощений за 300 <^>oC, має найбільшу шорсткість (47,9 нм). Рентгеноструктурний аналіз показує, що NiO нанолусочки мають кубічну структуру з піками орієнтації (111), (200), і (220). Це особливо чітко проявляється за 300 <^>oC. Рентгеноструктурний аналіз також показує відсутність Ni(OH)2 піка за відпалу. Вимірювання в ультрафіолеті та видимому світлі дають малу ширину забороненої зони 3,80 еВ для 300 <^>oC через високу кристалічність. Ця температура є оптимальною для синтезу NiO нанолусочок високої якості, що є важливим для їх застосування в сенсорах.
Попередній перегляд:   Завантажити - 1.527 Mb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
2.

Abubakar D. 
Investigation on the structural and optical properties of NiO nanoflakes. chemical bath deposition of Ni(OH)2 thin films [Електронний ресурс] / D. Abubakar, N. Mahmoud, Sh. Mahmud // Ukrainian journal of physics. - 2017. - Vol. 62, № 11. - С. 970-977. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Ukjourph_2017_62_11_9
За допомогою методу хімічного осадження вирощено пористі нанолусочки окису нікелю NiO. На підкладці оксид індію-олова/скло отримано тонкі плівки та піддані відпалу за змінної температури в печі. Вивчено та проаналізовано їх структуру, оптичні властивості та морфологію поверхні. За допомогою методу емісійної растрової електронної мікроскопії показано присутність нанолусочок у структурі NiO/Ni(OH)2 тонких плівок. Розміри нанолусочок збільшуються з ростом температури відпалу. Знайдено, що найбільшу площу поверхні має зразок, вирощений за 300 <^>oC. Результати енергодисперсійної спектроскопії показують нестехіометрію атомного відношення зразка, що відповідає p-типу NiO тонкої плівки. За допомогою методу атомної силової спектроскопії знайдено, що зразок, вирощений за 300 <^>oC, має найбільшу шорсткість (47,9 нм). Рентгеноструктурний аналіз показує, що NiO нанолусочки мають кубічну структуру з піками орієнтації (111), (200), і (220). Це особливо чітко проявляється за 300 <^>oC. Рентгеноструктурний аналіз також показує відсутність Ni(OH)2 піка за відпалу. Вимірювання в ультрафіолеті та видимому світлі дають малу ширину забороненої зони 3,80 еВ для 300 <^>oC через високу кристалічність. Ця температура є оптимальною для синтезу NiO нанолусочок високої якості, що є важливим для їх застосування в сенсорах.
Попередній перегляд:   Завантажити - 1.527 Mb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
 
Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів
Пам`ятка користувача

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського